薄膜材料
真空蒸着やスパッタリング技術を用いて、電子機器や光学機器の表面に薄膜を形成するための素材です。高品質な電子デバイス、ディスプレイ、ソーラーパネルなどに広く利用されています。
・各種スパッタリング・ターゲット
単結晶Si,多結晶Si,,e,.W,Mo,Cu,Cr,Nb,Ta,Zn,B,In,
V,
Sc,
Hf,
Zr,
Co,
NiAl,
Ti,Fe,C,WC,WTi,TiSi,TiAl,CrAl,
TiCrSi,TiAlSi TiAlCr,CrAlSi,CrCu,ITO,AZO,
NbOx, NiCu,NiV, NiCr, AlSc、MoCu, Y,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,
Ho,Er,
Yb,Tm,各種円筒系ターゲットおよびTi Tube
・蒸着関係
Si-particle,Ge,Cr-particle,Cr-wire,MgF2-particle,V,Hf,ZnS,ZrO2, Al,Ti,Cu,Ni,In-Wire,LiF, 各種蒸着ボート,坩堝&ハースインゴット,フィラメント
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